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半導體工業廢水的處理方法都有哪些?

來源:本站
  隨著我國經濟的高速發展,半導體行業的發展也在迅速崛起,因此在半導體工業加工的過程中不可避免的會產生含有氟離子,銅離子,磷廢水的污染物廢水,下面就來列舉一些半導體工業廢水的處理方法都有哪些?
 
半導體工業廢水,廢水處理設備

  含氟離子廢水處理:
  將廢水的pH值調整在6-7左右,再加入的過量的CaCl2和適量的絮凝劑,后續會行形成沉淀,部分污泥循環成為載體,在沉淀池中通過重力沉降能夠實現泥水分離。
  第一次反應時能夠去除80%的氟,再一次加入絮凝劑,氟化鈣及其其他形態沉淀,利用污泥泵輸送到污泥沉淀池,用板框式脫水機壓成泥餅外運,這時候產生的壓濾液進入其他的系統進一步處理。
  含磷離子廢水處理:
  含磷廢水中磷主要以PO43-為主,采用的方法為化學沉淀法和混凝劑沉降法的組合工藝,通過加入CaCl2生成難溶于水的Ca5(PO4)3OH沉淀。
  一級反應池的pH調整到5-6左右,二級反應池pH調整到8.5-9,三級反應池pH調整到9-9.5(確保完全生成羥基磷酸鈣),此工藝流程比較簡單,費用也比較低,對于含磷廢水處理有很大的適用性。
  與研磨廢水進行混合:
  將半導體器件制造中產生的電鍍廢水和研磨廢水進行混合,混合廢水泵入浸沒式膜過濾裝置過濾,過濾的水泵入納濾膜過濾裝置過濾,經過納濾膜過濾裝置過濾的水即可直接回用。
 
  以上是小編整理的半導體工業廢水的處理方法都有哪些,后期將會關于更多污水處理的相關內容。
 
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